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    我國等離激元器件研發(fā)獲技術(shù)突破
    發(fā)布時間:2020-08-06 閱讀次數(shù):

         表面等離激元,在微納光子器件和光子集成、超分辨成像等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。金屬鈉膜的制備是鈉基等離激元器件首先需要解決的問題。28日,記者從南京大學(xué)獲悉,該校與北京大學(xué)、佐治亞理工學(xué)院等研究組合作,利用金屬鈉所具有的低熔點(diǎn)特點(diǎn),發(fā)展了獨(dú)特的液態(tài)金屬旋涂工藝,制成了金屬鈉薄膜,首次揭示了金屬鈉膜的優(yōu)異光波段等離激元特性。在此基礎(chǔ)上,他們研制出的鈉基通訊波段激光器,創(chuàng)造了同類等離激元納米激光器室溫激射的閾值新低。這一成果近日發(fā)表于《自然》雜志。

     

        文章的通訊作者之一、南京大學(xué)教授朱嘉介紹,一直以來,由于等離激元激發(fā)有電子振蕩參與,由焦耳熱引起的損耗,成了等離激元器件走向應(yīng)用的瓶頸。對于微納光子器件及集成芯片來說,尋找光頻段低損耗的金屬材料,成了該領(lǐng)域研究人員多年來努力的目標(biāo)。

     

        此前,人們一直寄希望于金、銀等貴金屬。但對于大多數(shù)器件來說,貴金屬損耗依然較高,再加上貴金屬成本與制備工藝等因素,貴金屬等離激元器件走向應(yīng)用依然有很大挑戰(zhàn)。

     

        相對而言,以鈉為代表的堿金屬傳輸特性,被認(rèn)為有可能具有更低的光學(xué)損耗。然而,由于金屬鈉活潑的化學(xué)性質(zhì)和嚴(yán)苛的制備條件,基于金屬鈉的等離激元器件的實驗探索鮮有報道。

     

        南京大學(xué)朱嘉、周林、祝世寧研究團(tuán)隊與北京大學(xué)馬仁敏、佐治亞理工學(xué)院蔡文杉等研究組合作,在鈉金屬薄膜和等離激元光子器件研究方面取得了重要突破。

     

        他們利用液態(tài)金屬旋涂工藝,結(jié)合可控冷卻技術(shù),成功獲得了高質(zhì)量的金屬鈉膜及等離激元結(jié)構(gòu)。在此基礎(chǔ)上,他們進(jìn)一步開發(fā)了鈉基等離激元功能器件。

     

        值得一提的是,得益于有效的封裝保護(hù),該激光器件在正常環(huán)境下6個月后仍保持了良好的工作性能。同時,研究團(tuán)隊在高溫和高濕環(huán)境下進(jìn)行了鈉基器件的加速老化實驗,證明了制備的鈉基等離激元器件具有非常好的耐受能力。(來源:科技日報)

     

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